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  • IQ Aligner NT自動(dòng)掩模對準系統

    ?新型IQ Aligner NT具有高強度和高均勻度的曝光光學(xué)器件,新的晶圓處理硬件,可實(shí)現全局多點(diǎn)對準的200mm和300mm晶圓全覆蓋范圍以及優(yōu)化的工具軟件,從而使生產(chǎn)率提高了2倍與EVG上一代IQ Aligner相比,對準精度提高了2倍。該系統超越了晶圓凸塊和其他后端光刻應用的蕞苛刻要求,同時(shí)與競爭系統相比,擁有成本降低了30%。

    更新時(shí)間:2024-03-19
    型號:IQ Aligner NT
    廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:729
  • EVG6200 NT掩模對準光刻系統

    EVG6200 NT掩模對準光刻系統 特色:EVG ® 6200 NT掩模對準器為光學(xué)雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米。

    更新時(shí)間:2024-03-19
    型號:
    廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:2485
  • IQ Aligner 自動(dòng)掩模對準系統

    IQ Aligner 自動(dòng)掩模對準系統 用于自動(dòng)非接觸近距離掩模對準光刻,進(jìn)行了處理和優(yōu)化,用于晶圓片的尺寸高達200毫米。

    更新時(shí)間:2024-03-19
    型號:
    廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
    瀏覽量:1735
  • EVG610EVG單面/雙面掩模對準光刻機

    EVG單面/雙面掩模對準光刻機EVG610(單面/雙面掩模對準光刻機 微流控 納米壓?。┲С指鞣N標準光刻工藝,如真空,硬,軟接觸和接近式曝光模式,可選擇背部對準方式。此外,該系統還提供其他功能,包括鍵合對準和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速處理和重新加工,以滿(mǎn)足不斷變化的用戶(hù)需求,轉換時(shí)間不到幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶(hù)概念適合初學(xué)者到專(zhuān)家級各個(gè)階層用戶(hù),非常適合大學(xué)和研發(fā)應用。

    更新時(shí)間:2024-03-19
    型號:EVG610
    廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
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