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EVG620 NT-掩模對準光刻機系統

簡要描述:EVG620 NT-掩模對準光刻機系統EVG ® 620 NT提供國家的本領域掩模對準技術在小化的占位面積,支持高達150毫米晶圓尺寸。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:代理商
  • 產品資料:查看pdf文檔
  • 更新時間:2023-12-14
  • 訪  問  量: 3589

詳細介紹

一、產品特色

EVG620 NT-掩模對準光刻機系統|接觸式光刻機提供國家的本領域掩模對準技術在小化的占位面積,支持高達150毫米晶圓尺寸。


二、技術數據

EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱,在小的占位面積上結合了先進的對準功能和優化的總體擁有成本,提供了先進的掩模對準技術。它是光學雙面光刻的理想工具,可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案,以滿足大批量生產要求和制造標準。擁有操作員友好型軟件,短的掩模和工具更換時間以及高效的球服務和支持,使它成為任何制造環境的理想解決方案。

EVG620 NT或*容納的EVG620 NT Gen2掩模對準系統配備了集成的振動隔離功能,可在各種應用中實現出色的曝光效果,例如,對薄而厚的光刻膠進行曝光,對深腔進行構圖并形成可比的形貌,以及對薄而易碎的材料(例如化合物半導體)進行加工。此外,半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。


三、EVG620 NT-掩模對準光刻機系統特征

1、晶圓/基板尺寸從小到150 mm / 6''

2、系統設計支持光刻工藝的多功能性

3、易碎,薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,更換時間短

4、帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列

5、自動原點功能,用于對準鍵的確居中

6、具有實時偏移校正功能的動態對準功能

7、支持新的UV-LED技術

8、返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統

9、自動化系統上的手動基板裝載功能

10、可以從半自動版本升級到全自動版本

11、小化系統占地面積和設施要求

12、多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)

13、先進的軟件功能以及研發與全面生產之間的兼容性

14、便捷處理和轉換重組

15、遠程技術支持和SECS / GEM兼容性


四、附加功能

1.鍵對準

2.紅外對準

3.納米壓印光刻(NIL)


五、EVG620 NT技術數據

曝1、光源:

汞光源/紫外線LED光源

2、先進的對準功能:

手動對準/原位對準驗證

3、自動對準:

動態對準/自動邊緣對準

對準偏移校正算法

4、EVG620 NT產能:

全自動:一批生產量:每小時180片

全自動:吞吐量對準:每小時140片晶圓

晶圓直徑(基板尺寸):高達150毫米

5、對準方式:

上側對準:≤±0.5 µm

底側對準:≤±1,0 µm

紅外校準:≤±2,0 µm /具體取決于基材

鍵對準:≤±2,0 µm

NIL對準:≤±3.0 µm

6、曝光設定:

真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

7、楔形補償:

全自動軟件控制

8、曝光選項:

間隔曝光/洪水曝光/扇區曝光


六、系統控制

1、操作系統:

Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數

2、多語言用戶GUI和支持:

CN,DE,FR,IT,JP,KR

實時遠程訪問,診斷和故障排除

3、工業自動化功能:

盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,彎曲,翹曲,邊緣晶圓處理

納米壓印光刻技術:SmartNIL



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